Appier发表前瞻性研究成果,展示AI在服装设计领域的创造力

2月14日,专精于人工智慧的新创公司 Appier 于第 32 届美国人工智慧年会 (AAAI)中,针对“AI 创造力”发表了前瞻性研究成果,展现 AI 在服装搭配与设计领域的突破性进展。


中国时尚网消息,今年代表 Appier 参与 AAAI 的研究团队是由 Appier 资料科学家施咏翔、张楷岳、Appier 首席资料科学家林轩田和国立清华大学电机系孙民教授所组成。团队透过深度学习技术设计 PCD)数学模型去自动学习与分析服饰搭配塬则,了解服饰造型之间的搭配关系与技巧,让机器拥有类似人类的创意以及穿搭思维。同时,团队将 PCD 模型接上生成对抗网路 (Generative Adversarial Networks, GANs),让电脑透过辨识与分析现有的图像,产生独特新颖的设计服饰。这些由 AI 所设计的服饰,能够真实反映出设计师的创意理念与搭配技巧。

Appier 执行长暨共同创办人游直翰表示:“这次 Appier 团队的研究成果,展现了 AI 在实现创造力方面的重大进展。一直以来,Appier 希望将 AI 带到人类生活的各个面向,其中也包含了创意的展现。“

Appier 首席资料科学家林轩田则表示:”Appier 将人工智慧运用在克服『服饰搭配与设计』这个挑战,主要是因为服饰穿搭本身就有一定的复杂程度,而这个应用在商业领域也具有相当大的发展性。“
 

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